間充質(zhì)干細胞無(wú)血清培養基P04-77350K適用于造血干細胞培養，即用型PowerStem HPSC。

間充質(zhì)干細胞無(wú)血清培養基P04-77350K儲存方法：2-8℃

應用：

應用于人來(lái)源的T細胞培養擴增，培養基需要添加刺激性抗體和細胞因子，另外每升培養基需要添加20ml 200mM的L。

操作: 

平板培養： 

1.  按照已確定的方法來(lái)準備新鮮或者凍存的  PBMNCs (外周血單個(gè)核細胞)   

2.  用血計數器計數細胞數量

3.  轉移適當數量的細胞到含有培養基（已加入細胞因子和刺激抗體）的培養瓶中 

4.  把培養瓶放入培養箱中，  37°C  ，  5% CO2 培養. 

產(chǎn)品特性: 

Nobimpex 無(wú)血清 T 細胞培養基  (Product number N103-1000)  已經(jīng)經(jīng)過(guò)嚴格的測試可用于 PBMNC 中的 T 細胞擴增。本產(chǎn)品已與其他幾種商業(yè)化可用的無(wú)血清培養基做了 T 細胞擴增比較。實(shí)驗中，200,000 PBMNCs/ml 在本產(chǎn)品和另一商業(yè)化培養基中培養 7  天，培養基含有  100 IU/ml IL-2  和 anti-CD3 (OKT3, 20ng/ml)  抗體。. 

實(shí)驗中擴增的 T-細胞使用  51 鉻釋放分析來(lái)測試細胞溶解能力。靶細胞  (K562,  人慢性白血病細胞),  使用 51  鉻標記并連接到 anti-CD3 (OKT3) Fc  受體.。當與效應或者細胞毒  T 細胞混合時(shí),，靶細胞就會(huì )凋亡或者溶解，并釋放 51 鉻.。上清中 51 鉻的釋放量與靶細胞的死亡及功能 T 細胞的數量成正比。